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Electron-beam, X-ray, and ion-beam technology :: submicrometer lithographies VIII : 1-3 March 1989, San Jose, California /

著者: Arnold W. Yanof chair/editor ; sponsored by SPIE--the International Society for Optical Engineering.

出版社: SPIE, 出版日期: c1989.

文献类型:

图书 , 索书号: TN14-53/E39

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